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2011年，美、德、日、意几个大国的第四代自由电子激光装置已经基本完成建设。而华国才刚开始批复项目建设，至今还未有属于自己的第四代自由电子激光装置！
盛明安对第四代自由电子激光光源倒是挺熟悉，因他前世研发光刻机，自然涉猎过构成光刻机核心技术之一的光源。
就目前而言，光刻机主流光源是激光等离子（LPP），因为西方的高端科技封锁政策，国内的LPP光刻机在学术上与国外壁垒相差实在太大。
但就未来发展而言，激光器将会碍于功率问题而限制光源制程，同时限制光刻机光源的更进一步发展，而解决方案就是第四代自由电子激光光源。
2006年，英特尔就曾提过利用FEL技术进行光刻。
话题扯远了，就用最简单的话语来说明所谓的同步辐射光源吧。
将同步辐射光源比喻成眼睛，人们可以用这双眼睛观察微观世界原子、分子，其科学领域应用范围非常广泛。
这双眼睛经过发展更新至第四代光源（XFEL），技术水平等于说从三代的‘拍照’瞬间提高到四代的‘拍摄电影’！
而今全世界各国都在试图攻破超短脉冲、全相干、极化控制等功能的高增益X射线FEL技术。
至于系统设置关卡的‘阿秒超短脉冲XFEL’……emmmm，连美国都还没有攻破阿秒级超短脉冲的XFEL装置。
